Molecular Imprints erhält Auftrag über mehrere moderne Litographiegeräte für großvolumige Halbleiterherstellung

Austin, Texas (ots/PRNewswire) -- Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) von Molecular Imprints
auf dem richtigen Weg für Produktion von Halbleiterspeichern ab 2014

AUSTIN, Texas, 24. September 24, 2012 /PRNewswire/ - Molecular
Imprints, Inc. (MII), Markt- und Technologieführer für
Nanostrukturierungs [http://www.molecularimprints.com/]systeme und
-lösungen gab heute den Erhalt eines Auftrags über mehrere
Imprint-Module [http://www.molecularimprints.com/] zur Integration in
die Steppersysteme eines Herstellers für Halbleiteranlagen bekannt.
Diese Module umfassen die neueste proprietäre Jet and Flash? Imprint
Lithography [http://www.molecularimprints.com/] (J-FIL?) Technologie
von MII mit der erforderlichen Leistung für die großvolumige
Herstellung moderner Halbleiterspeichergeräte.

(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO
[http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO] )

?Dieser Auftrag über mehrere Module ist ein Vertrauensbeweis unserer
Kunden hinsichtlich der baldigen Produktionsreife von J-FIL", so Mark
Melliar-Smith, Vorsitzender und CEO von Molecular Imprints. ?Unsere
Anlagen- und Handelspartner sowie internen Teams konnten ihre
Entwicklungsaktivitäten erfolgreich koordinieren und im letzten Jahr
enorme Fortschritte erzielen, insbesondere in den Bereichen
Mängelbehebung und Gesamtbetriebskosten
[http://www.molecularimprints.com/] (CoO). Wir freuen uns jetzt auf
die nächste Phase der Kommerzialisierung unserer J-FIL-Technologie
und auf die Entwicklung eines Strategieplans für
Halbleiterspeichergeräte in den nächsten Jahren."

Die J-FIL?-Technologie weist eine 24-nm-Strukturierung mit
herausragender Kantenrauigkeit (<2 nm LER, 3 Sigma) und Critical
Dimension Uniformity (1,2 nm CDU, 3 Sigma) mit Erweiterbarkeit auf 10
nm anhand eines einfachen einzelnen Strukturierverfahrensschritts
auf. Die inherenten Betriebskostenvorteile von J-FIL, die durch die
Vermeidung von EUV [http://www.molecularimprints.com/]-Lichtquellen
mit eingeschränkter Kapazität, komplexen optischen Linsen und
Spiegeln sowie Imaging-Problemen durch den Einsatz ultrasensibler
Fotolacke erzielt werden, positionieren das Produkt optimal für die
Herstellung von Halbleiterspeichern.

Informationen zu Molecular Imprints, Inc. Molecular Imprints, Inc.
(MII) ist Technologieführer für hochauflösende
Nanostrukturierungssysteme und -lösungen mit niedrigen
Gesamtbetriebskosten. MII nutzt seine innovative Jet and Flash?
Imprint Lithography (J-FIL?) Technologie, um sich als weltweiter
Markt- und Technologieführer für großvolumige Strukturierungslösungen
für Halbleiterspeicher in aufstrebenden Märkten wie Displays,
erneuerbare Energien, Biotechnologie und anderen Branchen zu
etablieren. MII beliefert die Nanostrukturierung mit umfassenden
Imprint-Litographielösungen, die bezahlbar, kompatibel und auf
Nanometer-Dimensionen unter 10 erweiterbar sind. Weitere
Informationen und Neuigkeiten auf Twitter finden Sie unter
www.molecularimprints.com [http://www.molecularimprints.com/].

Pressekontakt des Unternehmens Paul Hofemann Molecular Imprints,
Inc. +1-512-225-8441 phofemann@molecularimprints.com[mailto:phofema
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